En este seminario los asistentes aprenderán sobre: Aplicaciones en Internet, Marcas, Derechos de autor, Diseño de la Patente, Falsificación e Iniciativas del Gobierno oídas directamente desde el gobierno sobre los últimos programas de Propiedad intelectual, iniciativas y legislación.
Este seminario tendrá lugar en PLI New York Center, Nueva York, Estados Unidos.
