Este seminario proporcionará una perspectiva útil y soluciones prácticas en el contexto del desarrollo en el campo de la protección de Patentes, Modelos de utilidad y Marcas, así como su ejecución. Se cubrirán aspectos como el Registro de Diseños, Derechos de autor y saber cómo protegerlos. Los participantes aprenderán acerca de los dos aspectos estratégicos respecto al desarrollo de un portafolio para mantener un margen de actuación en China.
Este seminario tendrá lugar en Amsterdam Marriott Hotel, Amsterdam, Países Bajos.
