Este Simposium cubrirá los últimos desarrollos en el Sistema de patentes chino y explicará las diferencias existentes de la legislación, solicitud y litigios en China y en otras jurisdicciones. Temas como las directrices de la OAMI sobre el diseño comunitario y casos de infracción de diseños en Europa forman parte del programa.. El evento tendrá lugar del 15 al 17 de noviembre de 2009, en Shenzhen, China.