An den vier Veranstaltungstagen dieses Kurses werden folgende Themen behandelt: Interpretation und praktische Anwendung absoluter und relativer Eintragungshindernisse bei der Eintragung von Marken beim OEPM (Spanischen Patent- und Markenamt) und beim HABM, Fragen zum Patentgesetz sowie Stellungnahmen von Fachleuten zu verschiedenen Themenbereichen des Geistigen Eigentums und des Unlauteren Wettbewerbs. Die Veranstaltung findet vom 11. Mai bis zum 29. Juni 2010 in Madrid, Spanien statt.
